随着我国经济的高速发展，半导体行业的发展也在迅速崛起，因此在半导体工业加工的过程中不可避免的会产生含有氟离子，铜离子，磷废水的污染物废水，下面就来列举一些半导体工业废水的处理方法都有哪些？
 
半导体工业废水,废水处理设备　　含氟离子废水处理：
　　将废水的pH值调整在6-7左右，再加入的过量的CaCl2和适量的絮凝剂，后续会行形成沉淀，部分污泥循环成为载体，在沉淀池中通过重力沉降能够实现泥水分离。
　　第一次反应时能够去除80%的氟，再一次加入絮凝剂，氟化钙及其其他形态沉淀，利用污泥泵输送到污泥沉淀池,用板框式脱水机压成泥饼外运，这时候产生的压滤液进入其他的系统进一步处理。
　　含磷离子废水处理：
　　含磷废水中磷主要以PO43-为主，采用的方法为化学沉淀法和混凝剂沉降法的组合工艺，通过加入CaCl2生成难溶于水的Ca5(PO4)3OH沉淀。
　　一级反应池的pH调整到5-6左右，二级反应池pH调整到8.5-9，三级反应池pH调整到9-9.5（确保完全生成羟基磷酸钙），此工艺流程比较简单，费用也比较低，对于含磷废水处理有很大的适用性。
　　与研磨废水进行混合：
　　将半导体器件制造中产生的电镀废水和研磨废水进行混合，混合废水泵入浸没式膜过滤装置过滤，过滤的水泵入纳滤膜过滤装置过滤，经过纳滤膜过滤装置过滤的水即可直接回用。